新着情報

日程：11月16日（月）　11:20～18:35
11月17日（火）　 9:10～18:20
11月18日（水）　10:00～14:20　

会場：くにびきメッセ

展示品：

【ギ酸・水素還元両対応 リフロー装置 RSS-210-SC

•   ギ酸や水素で還元に対応することでフラックスレスで酸化膜除去。
•   真空チャンバー搭載、最大0.01%のボイドレスを実現。接合強度の向上も。

【タッチパネル式 真空・プロセスガス高速アニール加熱装置 RTP-150 】

• 卓上型サイズながら、最大到達温度1000℃を実現した真空プロセス高速加熱炉です。
• 窒素ガスパージ、酸素ガスパージ、フォーミングガス（水素＋窒素）パージなどに対応します。